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深圳市特普科电子设备有限公司
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ASMPT 半导体固晶机的参数和特点:
参数
精度:xy placement±2µm@3σ,die rotation±0.1°@3σ。
更大基板尺寸:280mmx300mm。
晶圆处理:12”wafer input handling。
特点
高精度:采用专利透视图案识别技术,确保高精度的芯片贴合。
多芯片处理:具备多芯片键合能力,支持自动键合工具更换,最多可达 10 个键合工具缓冲器和 5 个顶出工具。
灵活性高:可满足多种多芯片封装的要求。
精度:xy placement±3µm@3σ,die rotation±0.1°@3σ。
更大基板尺寸:200mmx215mm。
晶圆处理:6x6”od foton ring with 2-stage ejector system。
高精准度:专利透视图案识别技术,保证高键合精度。
多芯片能力:可进行多芯片键合,自动键合工具更换,最多有 10 个键合工具缓冲器,自动晶圆更换。
增强追溯:通过 OCR 增强材料追溯能力。
精度:±1.5µm@3σ。
周期时间:6-10sec。
芯片尺寸:0.15x0.15mm-3x8mm(激光加热)或 0.15x0.15mm-8x8mm(脉冲加热)。
基板尺寸:0.3x0.3mm-16x16mm。
键合压力:5-500g。
高精度贴合:专为芯片贴装在芯片 / 底座 / 载体应用而设计,具有高精准度。
多种功能:具备动态元件对准、芯片顶出系统、共晶键合能力、加热键合头、陶瓷脉冲加热器等。
可选配置:可选择倒装芯片单元、环氧冲压单元、点胶单元等。
精度:±0.2µm@3s。
工作台尺寸:300mm bonding station。
超高精度:提供同类产品中更高的贴装精度,支持所有芯片贴装和倒装芯片应用。
稳定性好:配备高精度对准光学系统、减振系统、自动贴装偏移调整系统等。
功能多样:具有原位共晶键合能力、3 种不同加热选项、环氧冲压和点胶能力、紫外固化能力等。
精度:±1µm@3s。
周期时间:<15sec。
应用广泛:可用于芯片和微光学元件(WDM、光电子元件、微透镜、微机械)的组装,适用于微光、LED 和 MEMS 组装、半导体先进封装等市场。
自动操作:具有自动装载基板晶圆的功能。
工艺多样:可进行环氧冲压和点胶、通过二极管激光或加热板进行共晶键合,支持被动对准,可选倒装芯片键合、晶圆映射、后键合检查 / 测量、UV 固化等功能。
联系人:张先生
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